ダイレクト浸炭
ダイレクト浸炭は、3つの特徴があり、1つ目は、浸炭ガスとしてアセチレンガス(不飽和炭化水素)を採用し、煤の発生を抑える技術です。
2つ目は、真空炉のようなコールドウォール型ではなく、ガス浸炭炉のようなホットウォール型炉体構造です。3つ目は、炉内に雰囲気撹拌装置を取り付けて、対流加熱や対流降温を可能にし、雰囲気炉としても使用できるようにしたことである。
これらにより、ダイレクト浸炭は、真空浸炭、真空浸炭窒化、浸窒焼入れ(Nハード)、光輝焼入れ等の処理が可能でオプションを追加することにより、ガス窒化、ガス軟窒化も可能である。