常圧スマート浸炭においてエッジ部でのセメンタイト（過剰浸炭）は発生するか

常圧スマート浸炭では、エッジ部でのセメンタイト（過剰浸炭）の発生を独自の雰囲気制御技術によって効果的に抑制しています。

アセチレンガスは炭素吸着反応性が高く、鋭角部やエッジ部に炭素が集中しやすい性質を持ちますが、リアルタイムでの濃度測定とパルス状の供給制御を組み合わせることで、鋼材表面に必要な量だけを供給する仕組みを実現しています。これにより、従来のガス浸炭で懸念された鋭角部・エッジ部での過剰な炭素侵入を防ぎ、セメンタイトの発生を抑えながら均一な品質に仕上げることが可能です。

事例として歯車部品の試作開発実績があり、エッジ部の過剰浸炭を発生させずに、優れた耐摩耗性と均一な硬化層の形成を実現しています。